就像在太陽光下用聚光鏡聚光一樣的方式，普林斯頓大學(xué)的激光蝕刻系統(tǒng)幾乎可以對所有東西的表面進(jìn)行納米級的陣列圖案刻制。
 
    隨著電路小型化的趨勢，許多工程師都致力于壓縮微電子芯片電路規(guī)模的工作中。微電子電路是刻在絕緣體襯底上的電路陣列，這些陣列構(gòu)成了電子線路龐大電學(xué)或光學(xué)部件。目前各種形式的電路陣列蝕刻技術(shù)被廣泛地應(yīng)用在工程領(lǐng)域，能夠?qū)��?fù)雜的電路刻制到空白芯片的表面上。與此同時，新的設(shè)計思想也在不斷改進(jìn)著這些蝕刻方式。該研究領(lǐng)域看上去有很大的發(fā)展前途。 

　　近來，普林斯頓大學(xué)的兩位工程師提出了一種具有較強(qiáng)魯棒性的微芯片表面陣列蝕刻技術(shù)。這兩人是醫(yī)學(xué)工程、航空工程副教授Craig Arnold，以及他的研究生Euan Mcleod。該項技術(shù)通過兩個激光器、一些水和一個非常小的塑料透鏡來完成整個蝕刻過程。雖然兩位發(fā)明者并沒有強(qiáng)調(diào)該技術(shù)一定要用塑料聚光鏡將激光會聚到芯片表面，但指出必須用一個球形聚光器來會聚激光。 

　　其他形式的激光蝕刻技術(shù)，例如電子束蝕刻技術(shù)，也具有非常好的蝕刻能力。和普林斯頓大學(xué)這兩位工程師的系統(tǒng)相比，蝕刻效果可以說是不相上下。但是，如果目標(biāo)表面是不規(guī)則的話，這些蝕刻方法都需要在氧氣氛圍和無振動環(huán)境下才能完成蝕刻任務(wù)。然而，這兩位工程師的陣列蝕刻系統(tǒng)完全可以在普通環(huán)境下對不規(guī)則材料表面進(jìn)行刻制工藝。這為工程應(yīng)用提供了一種適用范圍廣的陣列蝕刻方法，可以在生物活性材料、硅質(zhì)材料和其他一些無機(jī)材料上進(jìn)行陣列刻制。 

　　Arnold和McLeod的系統(tǒng)應(yīng)用了兩個激光器來戰(zhàn)勝該難題。首先，將第一個大功率激光器直射到位置固定而且和待蝕刻表面平行的聚光鏡上；然后，在保持聚焦鏡和蝕刻表面距離不變的情況下，上下移動聚光鏡來追蹤待蝕刻物的不規(guī)則表面。最后，利用第二個激光器（蝕刻激光器）在待蝕刻物表面燒出蝕刻紋路。 

　　在一次測試中，兩個激光器以這種方式在一個不規(guī)則平面上刻出了普林斯頓大學(xué)的�；請D案。實驗結(jié)果表明：刻出的圖案清晰，而且蝕刻紋路寬度小于100納米。還需要提到的是，該蝕刻系統(tǒng)完全由電腦控制，可以達(dá)到非常高的精度。 

　　除了進(jìn)行微尺度蝕刻，這個系統(tǒng)還可以用于在物體表面鍍上其他物質(zhì)，為構(gòu)筑三維立體結(jié)構(gòu)提供了新思路。其應(yīng)用范圍之廣，足以應(yīng)用于制造波導(dǎo)光學(xué)電路和納米機(jī)電設(shè)備等方面。